9月11日,第25届中国国际光电博览会在深圳国际会展中心隆重开幕。 季华实验室携光电领域最新研究成果精彩亮相,向外界展示了实验室的科技创新能力及产业化水平,吸引了众多专家、学者以及专业观众前来交流,共同探讨光电技术的发展。
△季华实验室展位
一、新型显示技术
G4.5 OLED RGB喷墨打印装备、新一代有机电致发光(OLED)显示材料、无缝像素-像素拼接(GP2S)式AMOLED 样机
○高分辨率OLED喷墨打印装备
团队研发的200×200喷墨打印装备已实现7吋137ppi基板全彩打印点亮、5吋254ppi、300ppi基板打印及UV测试,标志着我国自主装备首次实现了300ppi的高分辨率打印,性能达到国际先进水平。 此外,团队研发的G4.5喷墨打印装备于近期成功实现31吋基板多色打印与图案化展示,为我国喷墨打印显示技术产业化发展提供了强有力的技术装备支撑,具有里程碑式的意义。
○新一代有机电致发光(OLED)显示材料
团队开发了可满足超高清显示BT2020国际标准的红、绿、蓝三基色窄光谱墨水材料。其中绿光材料在亮度、色纯度以及寿命等关键技术指标上,已全面赶超国际竞争对手,器件寿命T95超过20000小时,成为主流面板厂商的核心材料方案。该系列成果迅速打入国内主流的面板制造企业供应链体系,极大地加速新型显示材料的国产化进程。
本项目主要进行无缝像素-像素拼接(GP2S)大尺寸高清全彩AMOLED解决方案开发。 目前已成功进行小型4区域GP2S无缝拼接AMOLED显示屏原理验证及整体专利布局,完成了样机制备。 现可以完全利用已经有量产经验的RGB分镀式OLED绝大部分的材料、设备、工艺等,并有望短时间内实现性能和量产的二者统一,将在OLED取代大、中型液晶屏方面对市场与竞争格局带来巨大变化。
二、半导体装备及零部件
远程等离子体源、线形等离子体源、真空高速蝶阀、电容薄膜真空计、磁控管微波电源、SiC高温外延生长装备
○远程等离子体源
采用2.45GHz微波能量将输入谐振腔的工艺气体离化成等离子体状态。 对于绝大多数工艺体,本远程等离子体源的离化率可以超过95%,具有损伤小、效率高、稳定性好、易维护等优势。
○线形等离子体源
运用介质阻挡放电(DBD)原理设计,利用电介质表面的分级现象形成均匀的电场,产生等离子体,通入Ar、He、N2、02或H2作为载气和工艺气体,产生电中性等离子线形束流。 该电中性等离子体线形束流具有均匀性高、颗粒少、电子温度低等优点。
○真空高速蝶阀
蝶阀内部集成的压力控制器通过采用自适应控制算法,快速且精准地计算所需阀门位置,使其能够在不同的真空环境中快速、无超调和精准控制真空设备压力。 同时使用高精度电机调节阀门位置,实现阀门的快速、精准定位。
HVPA系列的绝压式电容薄膜真空计,是一种用于真空测量的压力计。 有10torr、100torr、1000torr三种量程。 电容薄膜真空计是利用弹性膜片在压差作用下产生位移,导致电容量发生改变,通过测量电容的变化,达到测量压力的目的。 本系列电容薄膜真空计的传感器采用抗腐蚀的高纯氧化铝陶瓷材料,具有精度高、不受检测气体成分影响等特点。
该电源能提供最大6kW,2.45GHz微波能量,且微波功率调节至最大输出功率的10%以下仍可保证功率波动小于2%,是一种高性能、低成本的微波发生器,通常可用至等离子刻蚀(PE)、等离子增强化学气相沉积(PECVD)、离子注入、离子辅助沉积等应用中。
该装备重点攻克耐高温耐腐蚀材料反应室设计技术,均匀高温加热场设计,高精度温度控制技术,高温真空低漏率设计技术,旋转系统设计、膜厚及表面形貌的高精度实时监控技术,SiC高速外延工艺技术等核心关键技术,具备大尺寸化、高速生产化、高良率化、低能耗化、全自动化等优势特点,可满足高速SiC外延生长要求,实现了国产装备自主可控和批量应用,助推我国第三代半导体产业自主可控发展。
三、光学自动检测技术
高速超景深光学模组、高速超景深数字显微系统以及超高速全聚焦成像系统
○高速超景深光学模组
本产品可以外接物镜和照明后独立使用,也可接在传统的金相显微镜上使用。 在低倍率的场景下,此模组可以独立使用,相当于一个小型超景深显微镜。 该产品也可代替数码显微镜的相机,与显微镜连接,使传统2D显微镜升级为超景深显微镜。○高速超景深数字显微系统
本产品自带支架、照明和物镜,是一台可以独立使用的显微光学系统。 其核心技术是使用微镜阵列系统,使得光学系统在Z轴上无需使用电动马达驱动镜头组即可实现快速变焦从而可对观测样品快速生成超景深图片和完成三维重建。 产品支持同轴光和三层环形光,可构成复杂多样的打光方式从而观测不同缺陷。 同时针对高倍率场景研发了专用的超薄环形光,且支持2倍、7.5倍、10倍、20倍、50倍多种倍率物镜的自由切换。
○超高速全聚焦成像系统
该产品使用微镜阵列系统技术,实现光学系统的高速变焦,同时结合超速CMOS,使得系统可以在快速变焦的同时进行快速成像。 经实测,变焦的同时进行拍照的次数,一秒钟超过1000次。 再将不同焦点的照片进行算法合成,使得超景深图片可以在1秒钟内生成超过100张。
四、微纳制造科学与技术
大口径近红外平面超透镜、SPAD探测效率测试系统
○大口径近红外平面超透镜
本成果基于超构光学原理,通过探究人工结构单元对入射光参量的调控规律,发展高精度高效率微纳加工工艺,突破红外超透镜的口径和透射效率限制,实现大口径、高透过率、高分辨率的近红外超透镜。 将其装载在红外图像传感器上,可以单层平面透镜代替整个复杂传统镜头,初步演示可应用于微区微距成像的便携式装备。
本项目展示的单光子雪崩二极管(SPAD)光子探测效率(PDE)谱测试系统具有准确度高、动态范围宽、使用方便等特点,尤其适用于弱光场景和低PDE器件的测试需求。 不同于传统方法,该系统方案基于事件刷新时数转换器(Event-refreshed TDC),能快速、准确地获得单光子探测器的PDE参数,而无需对探测器的暗计数、后脉冲、死时间等效应进行额外的测量和校正。 该方法有效降低了SPAD探测效率谱测量所需的硬件资源,能帮助用户更便捷地根据应用需求选择合适的单光子探测器件,或者在器件工艺开发过程中迅速地表征迭代。
在展会上,季华实验室在光电显示领域的创新和贡献受到业界认可。通过整合光电子集成电路技术的最新进展,实验室致力于开发高性能、高集成度的显示解决方案,以满足科研、教育、运输等行业日益增长的需求,在推动显示技术进步的同时也为相关领域带来了更广阔的应用前景。
作为覆盖光电全产业链的综合型展会,第25届CIOE中国光博会汇聚了来自全球超30个国家和地区的超3700家的优质参展企业,同期七展覆盖信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外、紫外、智能传感、新型显示等板块。展会为期3天,将持续展出到9月13日。
联系我们
展会时间:9月11日-13日
展会地点:深圳国际会展中心(宝安新馆)
展位号:2号馆2C115展位
电子邮件:wangyf@jihualab.ac.cn
联系电话:18666526676